Балючая кропка галіны
Павярхоўныя мікраскапічныя дэфекты ўплываюць на дакладнасць усталёўкі аптычных кампанентаў
Нягледзячы на цвёрдую тэкстуру граніту, у працэсе апрацоўкі на яго паверхні могуць з'яўляцца мікраскапічныя расколіны, пясчаныя адтуліны і іншыя дэфекты. Гэтыя нязначныя дэфекты незаўважныя няўзброеным вокам, але могуць істотна паўплываць на ўстаноўку аптычных кампанентаў. Напрыклад, калі высокадакладная аптычная лінза ўсталёўваецца на гранітную платформу з мікраскапічнымі дэфектамі, ідэальнае шчыльнае прыляганне паміж лінзай і платформай не можа быць дасягнута, у выніку чаго аптычны цэнтр аптычнай лінзы зрушваецца, што ўплывае на дакладнасць аптычнага шляху ўсяго аптычнага абсталявання для выяўлення і, у канчатковым выніку, зніжае дакладнасць выяўлення.
Вызваленне ўнутранага напружання ў матэрыяле выклікае дэфармацыю платформы
Нягледзячы на працяглы натуральны працэс старэння граніту, у працэсе здабычы і апрацоўкі ўнутраныя напружанні ўсё роўна змяняюцца. З часам гэтыя напружанні паступова здымаюцца, што можа прывесці да дэфармацыі гранітнай платформы. У аптычным інспекцыйным абсталяванні з высокімі патрабаваннямі да дакладнасці нават вельмі малая дэфармацыя можа прывесці да адхілення аптычнага шляху выяўлення. Напрыклад, у дакладных аптычных прыборах выяўлення, такіх як лазерныя інтэрферометры, нязначная дэфармацыя платформы прывядзе да зрушэння інтэрферэнцыйнай паласы, што прывядзе да памылак у выніках вымярэнняў і сур'ёзна паўплывае на надзейнасць дадзеных выяўлення.
Цяжка супаставіць каэфіцыент цеплавога пашырэння аптычнага элемента
Аптычнае кантрольна-праверкавае абсталяванне звычайна працуе ў розных тэмпературных умовах, і ў гэты час розніца паміж каэфіцыентам цеплавога пашырэння граніту і аптычных кампанентаў становіцца сур'ёзнай праблемай. Пры змене тэмпературы навакольнага асяроддзя з-за неадпаведнасці каэфіцыента цеплавога пашырэння паміж імі ўзнікаюць розныя ступені пашырэння, што можа выклікаць адноснае зрушэнне або напружанне паміж аптычным элементам і гранітнай платформай, тым самым уплываючы на дакладнасць выраўноўвання і стабільнасць аптычнай сістэмы. Напрыклад, ва ўмовах нізкай тэмпературы ступень сціскання граніту адрозніваецца ад ступені сціскання аптычнага шкла, што можа прывесці да расхіствання аптычных кампанентаў і паўплываць на нармальную працу абсталявання для выяўлення.
рашэнне
Высокадакладны працэс апрацоўкі паверхні
Выкарыстоўваючы перадавыя тэхналогіі шліфавання і паліроўкі, паверхня граніту апрацоўваецца з ультрадакладнай дакладнасцю. Шэраг працэсаў тонкага шліфавання з выкарыстаннем высокадакладнага абсталявання з ЧПУ могуць эфектыўна ліквідаваць мікраскапічныя дэфекты паверхні, каб паверхня граніту была роўнай да нанаметровага ўзроўню. У той жа час, для далейшай аптымізацыі якасці паверхні, забеспячэння дакладнай усталёўкі аптычных кампанентаў, мінімізацыі адхіленняў аптычнага шляху, выкліканых дэфектамі паверхні, і павышэння агульнай дакладнасці абсталявання для аптычнага кантролю выкарыстоўваюцца перадавыя тэхналогіі, такія як іённа-прамянёвая паліроўка.
Механізм зняцця стрэсу і доўгатэрміновага маніторынгу
Перад апрацоўкай граніту праводзіцца тэрмічнае і вібрацыйнае старэнне для максімальнага зняцця ўнутраных напружанняў. Пасля завяршэння апрацоўкі выкарыстоўваецца перадавая тэхналогія выяўлення напружанняў для правядзення комплекснага маніторынгу напружанняў на платформе. Адначасова ствараюцца файлы доўгатэрміновага тэхнічнага абслугоўвання абсталявання і рэгулярна выяўляюцца дэфармацыі гранітнай платформы. Пасля выяўлення нязначнай дэфармацыі, выкліканай зняццем напружання, яна своечасова карэктуецца з дапамогай працэсу дакладнай рэгулявання, каб забяспечыць стабільнасць платформы падчас працяглага выкарыстання і забяспечыць надзейную аснову для абсталявання для аптычнага кантролю.
Тэрмаўпарадкаванне і аптымізацыя падбору матэрыялаў
Улічваючы розніцу ў каэфіцыенце цеплавога пашырэння, з аднаго боку, распрацавана новая сістэма кіравання тэмпературай, якая дазваляе падтрымліваць тэмпературу ўнутры аптычнага абсталявання для выяўлення ў адносна стабільным дыяпазоне шляхам дакладнага кантролю, памяншаючы пашырэнне матэрыялу, выкліканае зменамі тэмпературы. З іншага боку, пры выбары матэрыялаў неабходна ўлічваць адпаведнасць каэфіцыента цеплавога пашырэння граніту і аптычных кампанентаў, выбіраць гатункі граніту з падобным каэфіцыентам цеплавога пашырэння і праводзіць адпаведную аптымізацыю канструкцыі аптычных кампанентаў. Акрамя таго, для зняцця напружання, выкліканага розніцай у цеплавым пашырэнні паміж імі, можна выкарыстоўваць прамежкавыя буферныя матэрыялы або гнуткія злучальныя структуры, каб забяспечыць стабільную працу аптычнай сістэмы ў розных тэмпературных умовах, а таксама палепшыць адаптыўнасць да навакольнага асяроддзя і дакладнасць выяўлення абсталявання для выяўлення.
Час публікацыі: 24 сакавіка 2025 г.